JIS H 0614 最新規格 シリコン鏡面ウェーハの外観検査｜JIS規格一覧｜更新改正情報｜制定
JIS H 0614の規格 シリコン鏡面ウェーハの外観検査の一覧･基本･名称･用語･知識･JIS最新改正更新情報に関して解説！
JISH0614:1996の規格は,半導体素子を形成することを目的としたシリコンウェーハをケミカル・メカニカルポリッシュによって鏡面加工仕上げしたウェーハの表面(鏡面及び裏面)の目視による外観検査について規定。
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シリコン鏡面ウェーハの外観検査 規格 一覧表
シリコン鏡面ウェーハの外観検査の一覧
最新 JISH0614:1996の更新 情報詳細
JIS H 0614：1996の最新の詳細や改正，更新日の情報！
JIS 改正 最新情報
| JIS規格番号 | JIS H 0614 | JIS改正 最新・更新日 | 1996/1/1 |
|---|---|---|---|
| 規格名称 | シリコン鏡面ウェーハの外観検査 | ||
| 英語訳 | Visual inspection for silicon wafers with specular surfaces | ||
| 対応国際規格 ISO | |||
| 主務大臣 | 経済産業 | 制定 年月日 | 1978/1/1 |
| 略語・記号 | No | JIS H 0614:1996 | |
| ICS | 29.045，77.120.99 | JISハンドブック | |
| 改訂 履歴 | 1978-01-01(制定)，1983-10-01(確認)，1988-12-01(確認)，1993-12-01(確認)，1996-01-01改正，2001-09-20(確認)，2006-01-20(確認)，2010-10-01(確認)，2015-10-20(確認) | ||
JIS規格「日本工業規格」は、2019年7月1日の法改正により名称が「日本産業規格」に変わりました。
JIS H 0614:1996の関連規格と引用規格一覧
| 規格番号 | 規格名称 |
|---|---|
| JIS B 9920-1 | クリーンルーム及び関連する制御環境ー第１部：浮遊粒子数濃度による空気清浄度の分類 |
| JIS B 9920-2 | クリーンルーム及び関連する制御環境－第２部：浮遊粒子数濃度による空気清浄度に関するクリーンルーム性能を根拠付けるためのモニタリング |
| JIS C 7612 | 照度測定方法 |
日本産業規格の一覧
日本産業規格のアルファベット分類一覧を参照
