JIS K 0133 最新規格 高周波プラズマ質量分析通則｜JIS規格一覧｜更新改正情報｜制定
JIS K 0133の規格 高周波プラズマ質量分析通則の一覧･基本･名称･用語･知識･JIS最新改正更新情報に関して解説！
JISK0133:2007の規格は,高周波プラズマ質量分析計を用いて測定対象元素の定性分析,定量分析及び同位体比測定を行う場合の通則について規定。
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高周波プラズマ質量分析通則 規格 一覧表
高周波プラズマ質量分析通則の一覧
最新 JISK0133:2007の更新 情報詳細
JIS K 0133：2007の最新の詳細や改正，更新日の情報！
JIS 改正 最新情報
| JIS規格番号 | JIS K 0133 | JIS改正 最新・更新日 | 2007/6/20 |
|---|---|---|---|
| 規格名称 | 高周波プラズマ質量分析通則 | ||
| 英語訳 | General rules for high frequency plasma mass spectrometry | ||
| 対応国際規格 ISO | |||
| 主務大臣 | 経済産業 | 制定 年月日 | 2000/7/20 |
| 略語・記号 | No | JIS K 0133:2007 | |
| ICS | 71.040.40 | JISハンドブック | 化学分析:2019，環境測定II:2019 |
| 改訂 履歴 | 2000-07-20(制定)，2007-06-20改正，2012-10-22(確認)，2017-10-20(確認) | ||
JIS規格「日本工業規格」は、2019年7月1日の法改正により名称が「日本産業規格」に変わりました。
JIS K 0133:2007の関連規格と引用規格一覧
| 規格番号 | 規格名称 |
|---|---|
| JIS B 9920-1 | クリーンルーム及び関連する制御環境ー第１部：浮遊粒子数濃度による空気清浄度の分類 |
| JIS B 9920-2 | クリーンルーム及び関連する制御環境－第２部：浮遊粒子数濃度による空気清浄度に関するクリーンルーム性能を根拠付けるためのモニタリング |
| JIS K 0116 | 発光分光分析通則 |
| JIS K 0211 | 分析化学用語（基礎部門） |
| JIS K 0215 | 分析化学用語（分析機器部門） |
| JIS K 0553 | 超純水中の金属元素試験方法 |
| JIS K 0557 | 用水・排水の試験に用いる水 |
| JIS Z 8402-1 | 測定方法及び測定結果の精確さ（真度及び精度）－第１部：一般的な原理及び定義 |
| JIS Z 8402-2 | 測定方法及び測定結果の精確さ（真度及び精度）－第２部：標準測定方法の併行精度及び再現精度を求めるための基本的方法 |
日本産業規格の一覧
日本産業規格のアルファベット分類一覧を参照
