JIS K 0148 最新規格 表面化学分析－全反射蛍光Ｘ線分析法（ＴＸＲＦ）によるシリコンウェーハ表面汚染元素の定量方法｜JIS規格一覧｜更新改正情報｜制定
JIS K 0148の規格 表面化学分析－全反射蛍光Ｘ線分析法（ＴＸＲＦ）によるシリコンウェーハ表面汚染元素の定量方法の一覧･基本･名称･用語･知識･JIS最新改正更新情報に関して解説！
JISK0148:2005の規格は,シリコン鏡面ウェーハ又はエピタキシャルウェーハの表面原子濃度を,全反射蛍光X線分析法(TXRF)によって定量する方法について規定。
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表面化学分析－全反射蛍光Ｘ線分析法（ＴＸＲＦ）によるシリコンウェーハ表面汚染元素の定量方法 規格 一覧表
表面化学分析－全反射蛍光Ｘ線分析法（ＴＸＲＦ）によるシリコンウェーハ表面汚染元素の定量方法の一覧
最新 JISK0148:2005の更新 情報詳細
JIS K 0148：2005の最新の詳細や改正，更新日の情報！
JIS 改正 最新情報
| JIS規格番号 | JIS K 0148 | JIS改正 最新・更新日 | |
|---|---|---|---|
| 規格名称 | 表面化学分析－全反射蛍光Ｘ線分析法（ＴＸＲＦ）によるシリコンウェーハ表面汚染元素の定量方法 | ||
| 英語訳 | Surface chemical analysis – Determination of surface elemental contamination on silicon wafers by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy | ||
| 対応国際規格 ISO | ISO 14706:2000(IDT) | ||
| 主務大臣 | 経済産業 | 制定 年月日 | 2005/3/20 |
| 略語・記号 | No | JIS K 0148:2005 | |
| ICS | 71.040.40 | JISハンドブック | |
| 改訂 履歴 | 2005-03-20(制定)，2009-10-01(確認)，2014-10-20(確認)，2019-10-21(確認) | ||
JIS規格「日本工業規格」は、2019年7月1日の法改正により名称が「日本産業規格」に変わりました。
JIS K 0148:2005の関連規格と引用規格一覧
| 規格番号 | 規格名称 |
|---|---|
| JIS B 9920-1 | クリーンルーム及び関連する制御環境ー第１部：浮遊粒子数濃度による空気清浄度の分類 |
| JIS B 9920-2 | クリーンルーム及び関連する制御環境－第２部：浮遊粒子数濃度による空気清浄度に関するクリーンルーム性能を根拠付けるためのモニタリング |
| JIS Z 8402-2 | 測定方法及び測定結果の精確さ（真度及び精度）－第２部：標準測定方法の併行精度及び再現精度を求めるための基本的方法 |
日本産業規格の一覧
日本産業規格のアルファベット分類一覧を参照
